[发明专利]一种应用于OLED超高解析图案化黄光工艺流程在审
| 申请号： | 202310749884.X | 申请日： | 2023-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN116669515A | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 林进志;曹绪文;晋芳铭;张良睿;郭瑞 | 申请（专利权）人： | 深圳市芯视佳半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | H10K71/20 | 分类号： | H10K71/20;H10K71/00;H10K59/35;H10K59/10;G03F7/095;G03F7/16 |
| 代理公司： | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人： | 曹政 |
| 地址： | 518109 广东省深圳市龙华区大浪*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种应用于OLED超高解析图案化黄光工艺流程，包括如下步骤：1)架构基板；2)利用旋涂机旋涂第一层光阻成膜；3)利用旋涂机旋涂第二层光阻成膜；4)利用曝光机将欲开孔区域进行曝光；5)利用显影设备将欲开孔区域进行开孔；6)利用蒸镀成膜设备将发光材料进行成膜；7)利用剥离材料将所有光阻进行剥离；8)重复上述1)～8)步骤工艺；9)完成RGB三颜色器件成膜，将进行结构设计将现行单层光阻设计成至少2层光阻设计，此种结构设计将大幅减低剥离光阻异常现象，工艺容错率将提高许多。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 oled 超高 解析 图案 化黄光 工艺流程 | ||
【主权项】：
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