[实用新型]硅片镀膜装置及电池片生产系统

摘要

本实用新型涉及一种硅片镀膜装置及电池片生产系统，由于载具处理机构位于所述下料位置远离所述镀膜腔的一侧，即处理腔与镀膜腔为不同的腔室，从而能够分别对镀膜腔的内壁进行清理以及对载具进行清理，而且，对镀膜腔的内壁进行清理后即可进行产线的运转而将载具的清理单独通过载具处理机构进行，占用的生产时间大大减少，保证生产效率。同时，只需在进行镀膜腔的内壁清理时进行反应气体的通入，反应气体在镀膜腔内的用量少，不会或极少在镀膜腔内残留，不会对镀膜腔造成污染，保证产品的电流效率。