[其他]双极晶体管无效

专利信息
申请号: 86100558 申请日: 1986-04-16
公开(公告)号: CN1003334B 公开(公告)日: 1989-02-15
发明(设计)人: 田端辉夫 申请(专利权)人: 三洋电机株式会社
主分类号: 分类号:
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利代理部 代理人: 马连富;许新根
地址: 日本大阪府守*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的双极晶体管具有以下构成:P型半导体衬底、在衬底的表面层部分区域上形成的N+型内埋层、覆盖衬底的整个表面并埋置内埋层的N型外延层、包围内埋层并从外延层的表面贯通至衬底的P+型隔离区、被隔离区包围而分隔成岛状的外延层所构成的N型集电区、在集电区的表面层部分区域上形成的P型基区、在基区的表面层部分区域上形成的N+型发身区和在除基区以外的整个集电区表菌层上形成的N+区域。
搜索关键词: 双极晶体管
【主权项】:
1、一种双极晶体管,它包括:第1导电型的半导体衬底、在上述衬底的表面层部分区域上形成的第2导电型的高浓度内埋层、复盖上述衬底的整个表面并埋置上述内埋层的第2导电型的外延层、包围上述内埋层并从上述外延层的表面贯通至衬底的第1导电型的高浓度隔离区、被上述隔离区包围而分隔成岛状的并由上述外延层构成的第2导电型的集电区、在上述集电区的表面层部分区域上形成的第1导电型的基区和在上述基区的表面层部分区域上形成的第2导电型的高浓度发射区,其特征在于在除上述基区以外的上述集电区的表面层上,形成第2导电型的高浓度的第1区域,从而使上述基区与上述隔离区的间隔距离缩小。
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