[发明专利]含有环状氟化磺酸盐表面活性剂蚀刻溶液无效

专利信息
申请号: 86103055.9 申请日: 1986-04-29
公开(公告)号: CN1012071B 公开(公告)日: 1991-03-20
发明(设计)人: 罗纳德·詹姆斯·霍普金斯;伊万·高尔·汤姆斯;哈罗德·约翰·基塔 申请(专利权)人: 阿兰德公司
主分类号: C09K13/00 分类号: C09K13/00
代理公司: 上海专利事务所 代理人: 全永留
地址: 美国新泽西州0796*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了具有可溶性表面添加剂的二氧化硅蚀刻溶液。改进的二氧化硅蚀刻剂是由把可溶性表面添加剂添加到集成电路制作中的标准的氧化物蚀刻剂中而获得的。本发明的有效表面活性剂称为氟化环烷烃磺酸盐和氟化环烯烃磺酸盐,一般式如下式中X是F、H、CI、OH、SO3A或R,Y是F、H、OH、R或略去,从而给予双键;其中R是1-4氟烷基;其中n值小于等于6。A表示阳离子组,可以是NH4+、H+、Na+、K+、Li+、R+或有机胺阳离子。
搜索关键词: 含有 环状 氟化 磺酸盐 表面活性剂 蚀刻 溶液
【主权项】:
1、一种包含可溶性表面活性剂且阻止表面活性剂沉淀的蚀刻溶液,其特征在于所说的溶液包括氟化铵和表面活性剂的一种水状混合物,所说混合物含有氟化铵(NH4F)13.5-40.5(重量)%以及具有以下结构式的氟化环烷烃磺酸盐和(或)氟化环烯烃磺酸盐25-2000ppm,式中:n为小于等于6的一个数值,X可以是F、Cl、H、OH、SO4A、R或者可略去R,Y可以是F-、Cl、H、OH-、R或者可略去R、A可以是H+、NH+、Na+、K+、Li+、R+或者NR+4,其中R为1-4个碳原子的烷基和(或)氟烷基及它们的混合物,其余为水。
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