[发明专利]等离子体处理方法和设备

摘要

介绍了一种等离子体化学汽相淀积法和设备。该设备包括一真空室，真空室中设有两对电极。往其中一对电极加高频电压，以便在真空室中产生反应气体的等离子体。待涂敷的基片配置在另一对电极之间。往该另一对电极加频率较低的电压。借助于该低频电压，基片在淀积的过程中就受到等离子体的轰击。轰击的作用在于除去淀积材料较软的部分。

主权项

1.一种等离子体处理设备，其特征在于，该设备包括：—真空室；—真空泵，连接到所述真空室，以便将所述真空室抽成真空；—气体引入系统，连接到所述真空室，以便将反应气体输入所述真空室中；—对第一电极，设在所述真空室中；—第一电压源，用以将第一高频交流电压加到所述各第一电极之间，以便将所述真空室中的反应气体转化成等离子体；—基片架，用以将所述设备要处理的基片支撑在所述各第一电极之间；至少一对第二电极，配置得使所述基片架所支撑的基片位于所述第二电极之间，和所述基片是绝缘的且和所述第二电极在空间上隔离；以及—第二电压源，用以将第二交流电压加到所述各第二电极之间，从而增强所述基片表面的溅射作用。