[发明专利]光刻胶和光学应用用的低光密度聚合物和共聚物的制备方法无效
| 申请号： | 91104298.9 | 申请日： | 1991-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN1057847A | 公开（公告）日： | 1992-01-15 |
| 发明（设计）人： | 米歇尔·时汉;詹姆斯·里 | 申请（专利权）人： | 赫希斯特人造丝公司 |
| 主分类号： | C08F12/12 | 分类号： | C08F12/12;C08F2/00;G03F7/004 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 陈季壮 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种制备含聚(4-羟基苯乙烯)或取代的聚(4-羟基苯乙烯)的聚合物的方法。该聚合物在240～260nm波长具有低光密度，在310～800nm也具有低光密度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 光学 用用 光密度 聚合物 共聚物 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种制备含聚(4-羟基苯乙烯)或取代的聚(4-羟基苯乙烯)或这两种物质的方法，所述方法包括以下步骤：a)使一种含4-乙酰氧基苯乙烯单体或取代的4-乙酰氧基单体或这两种物质和引发剂的混合物在一种至少含有一种有机溶剂的反应介质中反应，其中所述引发剂及其分解产物单独或作为聚合物封端基在约240-约260nm的波长范围内基本上不吸收辐射，或其中所述引发剂的浓度不到所述单体的约3%(摩尔)，由此制得一种含聚(4-乙酰氧基苯乙烯)或取代的聚(4-乙酰氧基苯乙烯)或这二者的聚合物，由于单体转化的结果或由于除掉残余单体，致使在后序酯基转移反应步骤中所用的反应混合物中存在10wt%或以下的残余单体(以所得聚合物重量计)，以及b)然后，在一种每当量非酯基转移的聚(4-乙酰氧基苯乙烯)或取代的聚(4-乙酰氧基苯乙烯)至少含一当量醇的酯基转移反应介质中，使用一种酸催化剂，使所述聚(4-乙酰氧基苯乙烯)醋基转移成聚(4-羟基苯乙烯)或使所述取代的聚(4-乙酰氧基苯乙烯)酯基转移成取代的聚(4-羟基苯乙烯)或使这两种物质酯基转移，其中所得聚(4-乙酰氧基苯乙烯)转化成所述聚(4-羟基苯乙烯)或所述取代的聚(4-乙酰氧基苯乙烯)转化成所述取代的聚(4-羟基苯乙烯)的转化率至少为85%(重量)，或这两种物质的酯基转移率至少为85%(重量)。
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