[发明专利]控制释放装置

摘要

本发明涉及一种将至少一种活性物质(如甲胺呋硫)通过溶解释放到一种流体介质中的装置，所述装置含有一覆盖层，该覆盖层对活性物质和流体是不透的，所述覆盖层有至少一缝隙并限定一成型腔，该腔由含有活性物质的形成的芯体填充。

主权项

1、一种用于将至少一种活性物质释放到一种流体介质中的装置，所述释放是通过将所述活性物质溶解于所述介质中实现的，所述装置包括一个覆盖层，该覆盖层对所述活性物质和所述流体是不透的或是在所述流体中可膨胀的或可缓慢溶解的，所述覆盖层具有至少一缝隙并限定一个成形的腔，所述腔由含有所述活性物质的成形的芯体填充，而且其中：a)所述活性物质均匀配置在所述芯体中，从而一旦该装置暴露于所述流体介质中，所述芯体的一个表面通过所述缝隙暴露到所述流体介质中而且由所述流体介质产生的所述表面的溶解引起所述表面的面积的至少一维尺寸的变化，同时所述暴露的表面积在所述芯体的至少50%整个溶解时间内基本上保持恒定；或者b)所述活性物质配置在一种不溶于所述流体中的一种惰性赋形剂基质中，所述装置是轴对称的，所述缝隙圆周配置以便经所述缝隙暴露的芯体的释放表面形状基本上是圆柱形的或一个圆柱体的部分。从而在至少部分溶解时间内允许基本上恒定释放所述活性物质。