[发明专利]异氰酸酯的制备方法无效
| 申请号： | 93119137.8 | 申请日： | 1993-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN1090841A | 公开（公告）日： | 1994-08-17 |
| 发明（设计）人： | W·D·麦吉;T·E·沃德 | 申请（专利权）人： | 孟山都公司 |
| 主分类号： | C07C263/00 | 分类号： | C07C263/00;C07C265/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 齐曾度,田舍人 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 异氰酸酯的制法，包括(a)CO2与伯胺在非质子有机溶剂和膦烯化物或膦烯化物与有机含N碱存在的条件下反应生成相应的氨基甲酸铵盐。该有机含N碱可从胍、脒化物、叔胺、吡啶和其混合物中选择。(b)氨基甲酸盐与一亲电或亲氧脱水剂反应生成相应的异氰酸酯。 | ||
| 搜索关键词： | 氰酸 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、异氰酸酯的制备方法，它包括：(a)CO2与伯胺在非质子有机溶剂和碱存在下，反应时间和温度能足以保证生成相应的氨基甲酸铵盐的条件下接触反应，上述碱可以膦烯化物和膦稀化物与一有机含N碱的混合物中选择，该有机含N碱可以胍、脒化物，叔胺，吡啶和其混合物中选择；(b)氨基甲酸铵盐与一亲电或亲氧脱水剂反应，该试剂可选自POX3、PX3、SOX2、SO2X2、PX5、P2O5、NOy、NOX、乙烯酮、下式酸酐：下式酰卤：和金属卤化物或卤氧化物。该金属可从过渡金属，ⅣB族、ⅣB族、ⅤB族金属中选择，这里R5、R6可单独从含1-22C的烷基、氟烷基、芳基、烷芳基和芳烷基中选择。X为Cl或Br，卤化物为氯化物溴化物，而y为1或2，在反应时间、温度能足以保证生成相应的异氰酸酯的条件下反应。
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