[实用新型]环状镜面板涂覆氮化钛设备无效
| 申请号： | 93229117.1 | 申请日： | 1993-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN2182178Y | 公开（公告）日： | 1994-11-09 |
| 发明（设计）人： | 李东升;谭凤鸣 | 申请（专利权）人： | 大连表面技术工程公司 |
| 主分类号： | C23C16/36 | 分类号： | C23C16/36 |
| 代理公司： | 大连科技专利事务所 | 代理人： | 龙锋 |
| 地址： | 116021 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种环状镜面板涂覆氮化钛设备，属于金属抛光设备，主要由圆环形状的内部为圆环形真空工作室7的壳体3，装在壳体3上的弧源头2，真空抽气口4、门1、反应气体输入口6及装在壳体3上的转动装置5组成，可加工大型不锈钢镜面板，成本低、结构简单、工件表面色泽及镀膜厚度均匀、噪音小、耗能低、操作方便。 | ||
| 搜索关键词： | 环状 面板 氮化 设备 | ||
【主权项】：
1、一种环状镜面板涂覆氮化钛设备，由壳体[3]、装在壳体[3]上的弧源头[2]、真空抽气口[4]、门[1]、反应气体输入口[6]组成，其特征在于：壳体[3]呈圆环形状，壳体[3]内部为圆环形真空工作室[7]，壳体[3]上装有转动装置[5]。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
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