[发明专利]一种涂有二硼化钛涂层的坩埚及其制造方法无效
| 申请号： | 94115523.4 | 申请日： | 1994-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN1039247C | 公开（公告）日： | 1998-07-22 |
| 发明（设计）人： | 李殿国;刘万生;苏启;张虎寅 | 申请（专利权）人： | 冶金工业部钢铁研究总院 |
| 主分类号： | C23C14/26 | 分类号： | C23C14/26;F27B14/10 |
| 代理公司： | 冶金专利事务所 | 代理人： | 侯文泰 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种涂有二硼化钛涂层的坩埚，涉及一种真空涂层或镀膜用熔化金属坩埚，所述坩埚具有一带凹槽的坩埚本体，在所述坩埚的凹槽内壁上涂覆有二硼化钛涂层，在所述坩埚的上壁表面部分或全部涂覆有三氧化二铝或二氧化硅绝缘保护层，所述坩埚具有既能导电，又能提高抗熔融金属侵蚀性，使用寿命长等优点。本发明还公开了一种用于制造涂有二硼化钛涂层坩埚的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 涂有二硼化钛 涂层 坩埚 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种涂有二硼化钛涂层的坩埚，具有一带凹槽的高熔点金属坩埚本体，其特征在于：所述坩埚的凹槽内壁上涂覆有二硼化钛涂层，厚度为0.2-2mm，在所述坩埚本体的上壁表面部分或全部涂覆有三氧化二铝或二氧化硅绝缘保护层，厚度为：0.1-1.0mm。
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