[发明专利]制备照相胶片用片基薄膜的方法无效

专利信息
申请号: 94190058.4 申请日: 1994-02-07
公开(公告)号: CN1054924C 公开(公告)日: 2000-07-26
发明(设计)人: 冈本弘;加藤光太郎;富田博史;铃木贤司;齐藤一义 申请(专利权)人: 帝人株式会社
主分类号: G03C1/795 分类号: G03C1/795;G03C1/81
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 钟守期
地址: 日本大阪*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 照相胶片用片基薄膜制备方法,其特征是(a)厚度方向的折射率(nz)至少是1.498,(b)雾霾值在2.0%以下,(c)有一个方向在0.05Hz的依赖于拉伸粘弹性的80℃的tanδ值在0.09以下,(d)在70℃的抗卷曲率在45%以上,(e)厚度在40—120μm范围内,(f)以聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯为实质性原料。该片基薄膜具有抗卷曲性、透明性和滑动性等适合作为照相胶片使用的性能。
搜索关键词: 制备 照相 胶片 用片基 薄膜 方法
【主权项】:
1.制备照相胶片用片基薄膜的方法,包括使聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯的未拉伸薄膜双轴取向、热固定双轴取向的薄膜并对所得到的薄膜以卷曲状态进行退火处理,退火处理的温度在高于薄膜处于卷曲状态下受热的温度和150℃以下温度之间,以使薄膜在0.05Hz的依赖于拉伸粘弹性的80℃的tanδ值降低至0.09以下,以形成照相胶片用片基薄膜,其特征在于:(a)厚度方向的折射率nz至少是1.498;(b)雾霾值在2.0%以下;(c)有一个方向上在0.05Hz的依赖于拉伸粘弹性的80℃的tanδ值是0.09以下;(d)在70℃的抗卷曲率是45%以上;(e)厚度在40-120μm范围内;和(f)以聚2,6-萘二甲酸乙二醇酯为实质性原料而构成。
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