[发明专利]木酚素系化合物的制备方法无效
申请号: | 94190286.2 | 申请日: | 1994-04-12 |
公开(公告)号: | CN1046937C | 公开(公告)日: | 1999-12-01 |
发明(设计)人: | 森幸雄;武智正三;木田士郎 | 申请(专利权)人: | 盐野义制药株式会社 |
主分类号: | C07C69/94 | 分类号: | C07C69/94;C07C67/347 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘元金,姜建成 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了可位置选择地制造木酚素系化合物的方法,即,在碱存在下,使(Ⅱ)式所示的内酯化合物与式R7Cl(式中,R7是三低级烷基甲硅烷基)所表示的化合物反应,然后加成(Ⅲ)式所示的炔属化合物,还原后得到(Ⅰ)式所示的化合物。[式中,R1是烷基、环烷基、环烷基低级烷基、芳烷基等,R2和R3各自是低级烷氧基等,R4是低级烷氧基或氢,R5和R6各自是低级烷基]。 | ||
搜索关键词: | 木酚素系 化合物 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.式(Ⅰ)化合物的制备方法:式中,R1、R2、R3、R4、R5和R6与下面所述的含义相同,其特征在于,在碱存在下,使式(Ⅱ)所示的内酯化合物式中,R2和R3各自是低级烷氧基,或者R2与R3一起形成亚烷基二氧基,R4是低级烷氧基或氢,R5和R6各自是低级烷基,与下式所表示的化合物反应,R7Cl式中,R7是三低级烷基甲硅烷基,然后使所得到的化合物与式(Ⅲ)所示的炔属化合物加成,得到式(Ⅳ)所示的化合物,式中,R1是烷基、环烷基、环烷基低级烷基、芳烷基或可以任选地具有取代基的芳基,式中,R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7的含义同上,将式(Ⅳ)化合物还原,制得上面式(Ⅰ)所示的化合物。
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