[发明专利]II-VI族半导体激光器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 95100650.9 申请日: 1995-02-23
公开(公告)号: CN1113355A 公开(公告)日: 1995-12-13
发明(设计)人: N·山田 申请(专利权)人: 惠普公司
主分类号: H01S3/18 分类号: H01S3/18;H01S3/19
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 萧掬昌,马铁良
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种以MgZnSSe、CdZnSSe或MgCdZnSSe为基体的II-VI族半导体激光器,其n型基片上依次生长有多层含晶体结构元素和掺杂的晶体吸附层,其中第一吸附层至倒数第二层的P型吸附层是用固态区MBE法形成的,最后一层P型吸附层则用气态区MBE或MOVPE法形成,且最后一层的P型吸附层最好在富有II族元素的情况下生长。
搜索关键词: ii vi 半导体激光器 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种Ⅱ-Ⅵ族半导体激光器,包括:一个n型基片;和多个吸附层,含有晶体结构元素和掺杂杂质,各吸附层在所述基片上形成;其特征在于,所有从第一吸附层至倒数第二的P型吸附层都用固态区分子束外延(MBE)法形成;而最后一层的P型吸附层则是用气态区MBE法或金属有机汽相外延(MOVPE)法形成。
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