[发明专利]具有微调游标的光掩模无效
| 申请号： | 95102701.8 | 申请日： | 1995-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN1074165C | 公开（公告）日： | 2001-10-31 |
| 发明（设计）人： | 黄俊 | 申请（专利权）人： | 现代电子产业株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66 |
| 代理公司： | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人： | 马涛 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光掩模包括一模区域和一限定模区域的划线区域；一用于测量自动图形套准的第一图形；一用于测量分步重复曝光系统的分辨率和聚焦的第二图形，其中第二图形包括由矩形方框构成的分辨率线条；一用于测量视觉图形套准的第三图形，其中，在划线之内限定一预定的区域，其中，第一，第二和第三图形形成在预定的区域内；第一图形为方框形图形，其投射在晶片的一位置，第二图形与第一图形相邻，第三图形包括多组，每组具有多个小方框图形；并且第一、第二和第三图形构成用于在半导体器件生产中测量各种特性的微调游标。本发明容易确保各种图形和微调游标所需的足够位置，并有效地利用划线，从而提高器件的集成度。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 微调 游标 光掩模 | ||
【主权项】：
1、一种光掩模，其包括：一模区域和一限定模区域的划线区域；一用于测量自动图形套准的第一图形；一用于测量分步重复曝光系统的分辨率和聚焦的第二图形，其中第二图形为由矩形方框构成的分辨率线条；一用于测量视觉图形套准的第三图形，其特征在于，在划线之内限定一预定的区域，其中，第一，第二和第三图形形成在所述预定的区域内；第一图形为方框形图形，其投射在晶片的一位置，第二图形与第一图形相邻，第三图形包括多组，每组具有多个小方框图形；并且第一、第二和第三图形构成用于在半导体器件生产中测量各种特性的微调游标。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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