[发明专利]淀积非常坚固的保护涂层的方法无效
申请号: | 95196758.4 | 申请日: | 1995-11-06 |
公开(公告)号: | CN1053931C | 公开(公告)日: | 2000-06-28 |
发明(设计)人: | S·纽维勒 | 申请(专利权)人: | S·纽维勒 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/50;C23C16/34;C23C16/36;C23C14/06 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 陈季壮 |
地址: | 法国蒙特*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 在至少一部分上淀积坚固的保护涂层的方法,其中将与10—70%的氦和氩的混合物结合的10—70%的氮,或用于强烈激发和离解氮和氢的10—70%的氖添加到前体气中,并选择供给前体气的各原子的能量以便达到限定能量范围的所谓Lifschitz条件,在该条件下生产最大数量的金刚石型四面体结构代替石墨结构。 | ||
搜索关键词: | 非常 坚固 保护 涂层 方法 | ||
【主权项】:
1.一种采用等离子体增强的化学气相淀积技术在至少一部件上淀积基本上不含氢,主要具有四面体结构,且基于碳和氮、基于钛、氮和碳或基于硼和氮的保护性涂层的方法,包括将含有待淀积元素的前体气引入真空室中,该真空室装有金属支座,该支座与产生直流或交流电且在射频或微波范围运行的发电机连接,支座上放置待涂覆部件,在该室内保持放电,以便使这部件的温度升高到150-400℃,在电力和压力条件下使前体气受物理和化学作用被激发并电离成等离子体形式,以便通过离子轰击使保护性涂层淀积在这部件上,其特征在于该前体气含有氮气、一种等离子体内提供解离的氢的气体以及硼或它的一种化合物;其特征在于,添加到前体气中的是10-70%的氦和氩的混合物或10-70%的氖,其作用是同时大大激发和解离氮和氢;其特征还在于选择供给前体气的各原子的能量以便以六角形结构为代价,涂层具有最大数量的四面体结构,以及供给前体气的各碳原子的能量为50-150eV。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的