[发明专利]使金属层构成图案的方法无效
| 申请号： | 96109619.5 | 申请日： | 1996-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN1153372A | 公开（公告）日： | 1997-07-02 |
| 发明（设计）人： | 卢载遇 | 申请（专利权）人： | 大宇电子株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/31 | 分类号： | G11B5/31;H01F41/14;C23F1/02 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 甘玲 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在一个薄膜磁头中形成一个下磁极的方法，该方法降低了其台阶的陡度。该方法从制备掩模层开始，包括在磁层上面的一个底面和一个与底面具有一个倾角θ的倾斜壁。然后，使磁层构成图案成为下磁极，包括一个平坦的底面和一个倾斜壁，该倾斜壁具有一个与掩模层的倾斜壁相比已减小了的陡度。倾斜壁陡度的减小是通过控制掩模层的蚀刻率与磁层的蚀刻率之间的比率来进行的。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 构成 图案 方法 | ||
【主权项】：
1、使一个形成在一个基底上的金属层构成图案的方法，该方法包括以下步骤：(a)在金属层上形成一个掩模层，该掩模层包括一个底面和与底面具有一个倾角θ的一个倾斜壁；又(b)使该金属层构成图案成为一个预先确定的结构，该结构包括通过采用掩模层的一个平坦的底面，与该平坦的底面具有一个倾角φ的一个倾斜壁。
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