[发明专利]二氧化硅光学镀膜材料的制备方法及二氧化硅材料

摘要

α－SiO2光学镀膜材料的制备方法,是一种制备光学镀膜材料的新的工艺方法,它省去了通常制备玻璃态SiO2光学镀膜材料需在1700℃以上高温熔融的复杂的工艺流程,代之而来的制备结晶态α－SiO2光学镀膜材料,只需在较低温度不超过600℃的条件下进行热处理即可获得镀膜效果极佳的光学镀膜材料。大幅度地降低了光学镀膜材料的制备成本、具有显著的经济效益。

主权项

1α-SiO2光学镀膜材料的制备方法及α-SiO2材料，是通过矿石精选、清洁处理、烘干、粉碎过筛、高温处理实现的，其特征在于：要求粉碎机和筛子的材质采用硬质材料制成，并对α-SiO2光学镀膜材料无污染，筛网的孔从小至大形成系列，以满足所需光学镀膜材料的粒度要求，根据粒度大小的要求，选用适合的筛孔过筛，对过筛的α-SiO2用高纯度水去粉未清洗后再进行热处理，即将α-SiO2装在对α-SiO2料无污染的坩埚里，并将装满α-SiO2料的坩埚放选大气加热炉中进行热处理，热处理的温控一时间曲线由图2所示，从室温匀速升温4小时以上，温度升至570℃-600℃，再恒温处理8小时以上，接着是均速降温24小时以上，最后是对经过热处理的α-SiO2进行质量筛选，把变色的含有杂复的α-SiO2全部去掉。