[发明专利]硅的精制方法及其精制装置无效
申请号: | 97111213.4 | 申请日: | 1997-03-18 |
公开(公告)号: | CN1167728A | 公开(公告)日: | 1997-12-17 |
发明(设计)人: | 花泽和浩;阿部正道;马场裕幸;中村尚道;汤下宪吉;阪口泰彦;加藤嘉英;荒谷复夫 | 申请(专利权)人: | 川崎制铁株式会社 |
主分类号: | C01B33/037 | 分类号: | C01B33/037;C30B13/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 杨松龄 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明目的在于有效地利用经电子束熔化可蒸发除去硅中杂质的优点,同时可谋求热效提高及防止污染等,在短时间内除去P、Al、Ca。通过电子束照射使得存在容器内的硅熔化,蒸发除掉该硅含有的易挥发性杂质元素,其特征是,容器材料为石墨,使硅熔化。在真空室内设置多个石墨容器,在石墨容器上部分别设有电子枪,使精制的硅依次在多个石墨容器中转移,作有效地精制。 | ||
搜索关键词: | 精制 方法 及其 装置 | ||
【主权项】:
1一种硅的精制方法,通过电子束照射使保存在容器内的硅熔化,蒸发除掉该硅含有的易挥发性杂质元素,其特征是,容器材料为石墨,使硅熔化。
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