[发明专利]带薄膜基板的制造方法和制造装置无效
申请号: | 97190293.3 | 申请日: | 1997-03-27 |
公开(公告)号: | CN1188516A | 公开(公告)日: | 1998-07-22 |
发明(设计)人: | 野村文保 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | C23C14/56 | 分类号: | C23C14/56 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的目的是提供一种用比较小的生产设备就可以以良好的效率连续地制造防反射滤光片等的大型带薄膜基板的带薄膜基板的制造方法和制造装置。为了达到上述目的的本发明,提供下述的一种带薄膜的基板的制造方法在成膜区域的前后,设有具有可以多级式地收纳成膜对象基板的第1和第2储料室的成膜室,在该成膜室的前后,分别设有具有可多级式地收纳成膜对象基板的储料室的投入室和取出室,在该成膜室中成膜对象基板正在成膜期间,把下一成膜对象基板组送入投入室,先排好气,同时,把前次成膜完毕的成膜对象基板组从取出室内取出来,其特征是,边使该成膜对象基板通过该成膜区域边使之形成膜。作为用来实施这种带薄膜的基板的制造方法的装置,提供一种带薄膜的基板的制造装置,其特征是具有在成膜区域的前后,具有可以多级式地收纳成膜对象基板的第1和第2储料室的成膜室;在该成膜室的前后,分别具有可多级式地收纳成膜对象基板的储料室的投入室和取出室;该成膜室、该投入室和该取出室分别独立地具有可排气的排气装置;该成膜室具有成膜粒子产生源、使该成膜对象基板通过成膜区域的装置和把该成膜对象基板组从第1储料室中顺次取出到该通过装置中去,并从该通过装置中取入到第2储料室中去的装置。本发明的带薄膜基板的制造方法,是一种连续地以良好的效率生产制造大型的带薄膜基板的制造方法,具有成膜区域无浪费、比现有的方法高数倍的生产率,且制造成本可以非常低的特征。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 制造 方法 装置 | ||
【主权项】:
1、一种带薄膜的基板的制造方法,该方法是在成膜区域前后,设有具有可以多级式地收纳成膜对象基板的第1和第2储料室的成膜室,在该成膜室的前后,分别设有具有可以多级式地收纳成膜对象基板的投入室和取出室,在该成膜室中,在成膜对象基板正在成膜期间,在把下一成膜对象基板组投入投入室中并排完气的同时,把上次已成膜完毕的成膜对象基板组从取出室中取出,其特征是:边使该成膜对象基板通过该成膜区域边使之成膜。
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