[发明专利]制备旋光性氰醇的方法无效
| 申请号： | 97191386.2 | 申请日： | 1997-02-07 |
| 公开（公告）号： | CN1073555C | 公开（公告）日： | 2001-10-24 |
| 发明（设计）人： | 宫泽嘉延;腰越太一;大川幸一;关根丈司;佐伯真一郎 | 申请（专利权）人： | 日本化药株式会社 |
| 主分类号： | C07C255/43 | 分类号： | C07C255/43;C07C253/34;//C07M700 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 孙爱 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 下面通式（１）所示的旋光性氰醇，其中Ｒ１和Ｒ２各自是氢原子或氨基保护基团，且＊２位＊３位碳原子的构型如下当＊２位的碳原子为Ｒ构型时，＊３位碳原子为Ｓ构型，而当＊２位碳原子为Ｓ构型时，＊３位碳原子为Ｒ构型，通过将其中一种旋光性氰醇结晶，同时在胺和有机溶剂存在下，对氰醇非对映异构体处理来改变２位碳原子的构型，引起异构化反应的方法来高效制备式（１）氰醇。$＃! | ||
| 搜索关键词： | 制备 旋光性 方法 | ||
【主权项】：
1．一种制备下列通式(1)所示的旋光性氰醇的方法：其中R1和R2各自是氢原子或氨基保护基团，且*2位和*3位碳原子的构型如下：当*2位的碳原子为R构型时，*3位碳原子为S构型，而当*2位碳原子为S构型时，*3位碳原子为R构型，该方法包括在胺和有机溶剂存在下，对N-(包括氨酯型保护基团的酰基型保护基团)-3-氨基-2-羟基-4-苯基丁腈的非对映异构体进行处理。
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