[发明专利]光刻胶的涂覆装置和涂覆方法有效
| 申请号： | 97192717.0 | 申请日： | 1997-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN1101280C | 公开（公告）日： | 2003-02-12 |
| 发明（设计）人： | 泽本俊宏 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B05C11/10 | 分类号： | B05C11/10;B05C1/08;B05D1/40 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王永刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的是提供在光刻中涂光刻胶时，提高图形精度的光刻胶的涂覆装置和涂覆方法。具有光刻胶(12)的贮存容器(10)；用于形成光刻胶(12)的膜的涂覆台(40)；从贮存容器(10)向涂覆台(40)导入光刻胶(12)的管道(52、54、56)；和在比涂覆台(40)还往上游处改善光刻胶(12)的质量的质量改善台(30)。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 方法 | ||
【主权项】：
1、一种光刻胶涂覆装置，具有：光刻胶的贮存容器；用于形成上述光刻胶的膜的涂覆台；从上述贮存容器向上述涂覆台导入上述光刻胶的管道；比上述涂覆台还处于上游，用于除去来自上述光刻胶的异物和气泡的质量改善台，上述质量改善台在从上述气泡的除去过程的流出一侧过滤并送出上述光刻胶。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社，未经精工爱普生株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/97192717.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：线性固体清除装置
- 下一篇：交联聚合物的制造方法
