[发明专利]铁锆硼掺杂纳米晶巨磁阻抗薄带材料及制备方法无效

专利信息
申请号: 98110340.5 申请日: 1998-07-15
公开(公告)号: CN1062611C 公开(公告)日: 2001-02-28
发明(设计)人: 梅良模;陈晨;郭慧群;刘宜华;栾开政 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C22C38/14 分类号: C22C38/14;C21D8/12
代理公司: 山东大学专利事务所 代理人: 刘旭东
地址: 250100 *** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于功能材料技术领域。本发明的主要内容是采用新的掺杂铁锆硼材料体系,其组分为Fe100-x-y-zZryBzMx,通过熔炼、快淬形成非晶薄带,然后进行退火处理,最终得到铁锆硼掺杂的纳米晶巨磁阻抗(GMI)薄带材料。本发明解决了现有材料存在的温度稳定性差,时效老化严重,生产工艺复杂等缺点。采用本发明制得的纳米晶巨磁阻抗(GMI)薄带材料具有良好的热稳定性,同时该发明还简化了工艺,降低了生产成本。$#!
搜索关键词: 铁锆硼 掺杂 纳米 磁阻 抗薄带 材料 制备 方法
【主权项】:
1.一种铁锆硼掺杂纳米晶巨磁阻抗薄带材料,其特征是该铁锆硼掺杂纳米晶巨磁阻抗薄带材料的分子组分为Fe100-x-y-zZryBzMx,其中x,y,z的取值范围是:x:0~5y:5~10z:3~10掺杂物质M是铜、钒、铬、镍(Cu,V,Cr,Ni)金属材料中的一种。
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