[发明专利]在电路中形成扫描路径的可试验性方法的设计无效
申请号: | 98117651.8 | 申请日: | 1998-08-28 |
公开(公告)号: | CN1212465A | 公开(公告)日: | 1999-03-31 |
发明(设计)人: | 浅香俊治 | 申请(专利权)人: | 日本电气株式会社 |
主分类号: | H01L27/00 | 分类号: | H01L27/00 |
代理公司: | 中科专利代理有限责任公司 | 代理人: | 刘晓峰 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种在一条具有必备元件的原始设计电路上形成扫描路径的可试验性方法的设计,从电路的大量路径中抽取出作为扫描路径的专用路径,在扫描路径用多路调制器形成和寄存器由扫描元件取代的两种情况下,计算各专用路径的占用面积,在每种情况下,都是具有最小占用面积的扫描路径被选择和形成。因为有两种形成扫描路径的方法供使用,所以可使电路中的扫描路径具有最小占用面积。 | ||
搜索关键词: | 电路 形成 扫描 路径 试验性 方法 设计 | ||
【主权项】:
1、一种在电路中形成扫描路径的可试验性方法的设计,其特征在于,它包括的步骤有:从多个连接一原始设计寄存器转换电平电路中的特定电路元件的路径中提取可被用作扫描路径的路径作为专用路径;对于每个包括作为所述电路元件的多路调制器的所述专用路径,在通过连接控制件和所述多路调制器形成一个第一候选扫描路径时,计算一占用面积;对于每个包括作为所述电路元件的寄存器的所述专用路径,在通过用一扫描元件取代所述来确定的专用路径的每个所述寄存器形成一个第二候选扫描路径时,计算一占用面积;对于多条所述专用路径的每一条,从所述第一候选路径和所述第二候选路径中选出具有较小占用面积的候选路径;对应于选择结果形成路径。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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