[发明专利]芳族卤化物的还原无效
| 申请号： | 98805275.X | 申请日： | 1998-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN1257467A | 公开（公告）日： | 2000-06-21 |
| 发明（设计）人： | L·克佐尔纳;J·弗罗里奇;U·乔蒂斯;B·库恩伯格 | 申请（专利权）人： | 萨诺化学药物股份公司 |
| 主分类号： | C07B31/00 | 分类号： | C07B31/00;C07D491/10;C07D307/00;C07D223/00;//C07C1/26;C07D333/10;(C07D491/10;30700;22300) |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 吴亦华 |
| 地址： | 奥地利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 为将通式(Ⅰ)Ar－Xn的(杂)芳族卤化物还原成通式(Ⅱ)Ar－Hn的化合物,在有氧存在下(特别以氧气和一种惰性气体的混合物形式)采用一种还原剂,特别是如氢化锂铝(LiAlH4)的氢化物试剂。有氧存在下还原得到较好的产率并且反应时间短,甚至在半工业化和工业化规模上也是如此。有氧存在下用LiAlH4还原适合于还原复杂的杂芳族卤化物,例如将溴代narwedine缩酮以工业规模还原成narwedine缩酮。 | ||
| 搜索关键词： | 卤化物 还原 | ||
【主权项】：
1.用还原剂将通式(I)芳族卤化物还原成通式(II)化合物方法，Ar-Xn(I)其中Ar为芳族基团，它可以在一个或多个位置被取代，它可以被稠合和可含一个或多个杂原子(O，S，N)；X为F，Cl，Br和/或I；n＝1-10，Ar-Hn(II)其中Ar和n具有通式(I)中所指定的意义，其特征是在有氧存在下进行还原。
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