[发明专利]用以形成薄膜的可在基片和防镀片之间改变距离的喷镀设备无效
| 申请号： | 99102225.4 | 申请日： | 1999-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN1227275A | 公开（公告）日： | 1999-09-01 |
| 发明（设计）人： | 二川正康;水户清 | 申请（专利权）人： | 夏普公司 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 曾祥凌,章社杲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种喷镀设备，用以无真空室内在由基片夹具夹持的基片上形成喷镀薄膜，具有对电极、装在对电极和基片夹具之间的防镀片、基片夹具传送机构和移动机构，移动机构用以移动基片夹具传送机构以改变基片和防镀片之间的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 用以 形成 薄膜 防镀片 之间 改变 距离 设备 | ||
【主权项】：
1．一种喷镀设备，用以在真空室内在受基片夹具夹持的基片上形成喷镀薄膜，具有：一个对电极；一防镀片，设在所述对电极和所述基片夹具之间；一基片夹具传送机构；和一移动机构，用以移动所述基片夹具传送机构以改变所述基片和所述防镀片之间的距离。
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