[发明专利]用于砂磨的光敏组合物以及含该组合物的光敏膜层压物有效
| 申请号： | 99118105.0 | 申请日： | 1999-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN1245300A | 公开（公告）日： | 2000-02-23 |
| 发明（设计）人： | 水泽龙马;朝日伸吉;中里俊二;带谷洋之 | 申请（专利权）人： | 东京応化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/09 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 白益华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种砂磨用光敏组合物和具有包括该光敏组合物的光敏层的光敏膜层压物。所述光敏组合物包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团并具有如右结构单元的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物,(B)碱溶性化合物,和(C)光致聚合引发剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 砂磨 光敏 组合 以及 层压 | ||
【主权项】：
1.一种砂磨用的光敏组合物，它包括(A)至少具有两个丙烯酰基团和/或甲基丙烯酰基团的可光致聚合的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯低聚物，其结构单元如下：(B)碱溶性化合物，和(C)光致聚合引发剂。
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