[发明专利]高压用电阻及其电阻值调整方法有效
| 申请号： | 99126058.9 | 申请日： | 1999-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN1262516A | 公开（公告）日： | 2000-08-09 |
| 发明（设计）人： | 东茂树 | 申请（专利权）人： | 株式会社村田制作所 |
| 主分类号： | H01C7/00 | 分类号： | H01C7/00;H01C13/00;H01C17/242 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种高压用电阻及其电阻值调整方法,由基片1上的电阻膜3的非形成部开始覆盖含有电阻值调整部3a的电阻膜3,通过激光调整直线状去除电阻膜3,形成4个调整槽7。各调整槽7形成相同的长度。该调整方法能够在短时间高精度进行电阻值调整,能够在电阻值调整部得到高绝缘性。 | ||
| 搜索关键词： | 高压 用电 及其 阻值 调整 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高压用电阻，包括：基片和在所述基片上形成的电阻膜，其特征在于，由所述基片上的电阻膜的非形成部开始覆盖电阻膜，通过激光调整所形成的多个直线状调整槽是平行的，并且形成位于电阻膜内的一端使位于与调整槽互相垂直的一条直线上。
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